光刻胶专项化学高纯分析

什么是光刻胶?

由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。

什么是光刻胶专用化学品?

指生产光刻胶使用的化学原料，包括光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）和光刻胶树脂、单体（或活性稀释剂）三种主要化学品成分和其他助剂。

光刻胶应用领域及类型

为什么光刻胶原料和光刻胶需要重点测试金属离子?

光刻作为集成电路制程中的核心步骤，其过程中的试剂及材料的金属离子污染会直接导致制程良率降低甚至废品产生，尤其对于影响最为严重的碱金属、碱土金属，管控最为严格。而光刻胶作为光刻制程中的核心材料，其产品品质要求逐步提升。金属离子含量管控需求已从成品逐步发展到全产业链，尤其对于基础原料中金属离子含量的控制，会直接影响后续工艺和最终成品。

光刻胶产品制作工艺流程图

工欲善其事，必先精其法。

SCA提供各种类型的感光树脂、增感剂、溶剂、光刻胶专用化学品以及各类型光刻胶成品中亚ppt级金属杂质、有机物杂质、颗粒物、多元素纳米颗粒物等核心指标的精准分析和方法指导。

SCA“芯”之所向，捷力助“光刻”。

SCA基于半导体光刻胶全产业链，为你建立科学的，从原料到光刻胶成品的杂质指标的全流程管控体系。