进样区局部改造方案

超净高纯气体主要用于制备半导体器件、化合物半导体等,因此,其金属杂质,阴、阳离子,颗粒物的数值都会直接影响集成电路产品质量。高纯气体杂质含量的要求已达到<100ppt甚至更低。与惰性气体相比,活性气体的采样难度大幅增加的同时,污染的可能随之增大。
气体吸收装置可以根据客户的样品需求进行定制,适用于需要控制的各种操作将污染及缝隙隔离在内,在保证安全的前提下保证颗粒度、湿
度和温度,提高采样的稳定性。在尺寸可定制,可选择自动湿度控制系统调节,净化工艺气体以维持用户确定的 %RH 设定点。另有选配功能,带有气锁、加热、加湿和杀菌模块。
非常适合惰性气体保护处理的零件、对温度和湿度有一定要求的测试、化学混合和其他需要非反应性环境的样品处理。

可选不锈钢、亚克力、防静电 PVC 材质,可通过手阀设置外循环或内循环模式,过滤器可以去除载气的细小颗粒,保证实验环境的洁净。