半导体高纯液体化学品检测
用于集成电路制造的清洗、蚀刻、掺杂、显影、晶圆表面处理、去膜、去光刻胶等工序中,其纯度和洁净度对产品的良率,电性能和可靠性都有十分重要的影响。
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用于集成电路制造的清洗、蚀刻、掺杂、显影、晶圆表面处理、去膜、去光刻胶等工序中,其纯度和洁净度对产品的良率,电性能和可靠性都有十分重要的影响,随着显示面板、太阳能电池领域的发展,湿电子化学品用量进一步扩大。
半导体化学高纯检测项目
◆ 超纯单一化学品和混配类化学品的浓度
◆ 60种以 上金属杂质:Li,Na,K,Ca,Mg,Al,Ba,Fe,Cr,Ni,Cu,Ag,Mn,Pb等
◆ F-, Cl-, Br-, I-, NO3-, So42-, Po43-, NH4.等阴、阳离子
◆ 非金属和类金属:S,P,Si, Cl,As,Se,B等
◆ 挥发性有机物(TVOC)
◆ 超纯化学品中颗粒数
◆ 高纯气体中的颗粒数
◆ 无尘室空气中颗粒数
◆ 单一金属和混合金属纳米颗粒物的种类,粒径,颗粒数量和浓度(5nm-200nm)
◆ 超纯水测试(电阻率、颗粒物、TOC、DO、金属杂质、阴,阳离子、细菌、二氧化硅等)
◆ 超纯化学品中还原性物质的含量
可分析样品(见下表)
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