超净高纯气体主要用于制备半导体器件、化合物半导体等，因此，其金属杂质，阴、阳离子,颗粒物的数值都会直接影响集成电路产品质量。目前，高纯气体杂质含量的要求已达到<100ppt甚至更低。
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