1. 湿化学品中元素控制在半导体制程中的重要性
在集成电路芯片制造的清洗、蚀刻、掺杂、显影、晶圆表面处理、去膜、去光刻胶等复杂的工艺过程中，高纯湿化学品是最基础也是最重要的原料，其纯度和洁净度对产品的良率、电性能和可靠性都有非常重要的影响，根据业内人士估计，元素污染造成了约 50% 的产量损失。而元素含量，已成为高纯湿化学品中最重要的技术性能之一。

2. 分析技术的要求和难点
对于高纯湿化学品中元素的要求，不同工艺水平、不同芯片类型甚至不同IC 代工厂或硅片制造商都会有不同要求，但一般来说目前市场能够见到最好的湿化学品spec水平大多数各元素水平在1-10ppt。对于实验室分析要求来说，这就要求对于大多数元素，ICPMS分析水平能够达到1ppt以内。
 
细节到不同化学品、不同元素，对于化学分析来说难度也是非常不同。通常来说，我们把化学品分为：第一类HF/HNO3/H2O2/NH3.H2O；第二类 HCL/H2SO4；第三类 有机物，例如IPA/PGME/PGMEA。（注意：SC1/SC2/SPM等无机配方化合物难点与无机高纯酸/碱要求一致；OK73/EKC/ST-44等配方型有机物要求均低于单一高纯有机物。）
 
这三类化合物中，尤其以第二类和第三类化合物分析难度较高，除了超洁净无尘室外（通常要求百级以下），搭配业界最优秀的ICPMS结合适宜的方法，才能得到符合要求、保证质量的分析结果。SCA专家经过长期的技术钻研和测试，选择行业内最认可、技术最先进的设备-安捷伦ICPMSMS8900，结合内部方法，构建SCA出色的分析水平。


部分分析难点：
a.硫酸 由于硫酸样品中含有大量的S元素，硫元素形成的多原子离子对Ti和V形成强大的干扰，单极杆ICP-MS消除干扰的能力，满足不了半导体行业的应用需求。目前，电感耦合等离子体串联质谱仪是一个理想的解决方法。


b.湿化学品中Li/Na/K/Ca等元素分析：
SCA使用安捷伦8900结合其独特的冷等离子体功能(低温等离子体可显著减少氩化物干扰物的形成，如Ar+、ArH+和ArO+)及MS/MS 模式反应池方法，实现稳定亚ppt 级别的的Li、Na、K、Mg、Al、Ca等元素的实验室检出限。
 
c.高纯有机化学品中元素分析
SCA专家长期经验结合安捷伦8900，综合调节等离子体功率/采样深度/雾化气、补偿气流量/S透镜提取强度，使得火焰温度介于热焰与冷焰之间，达到既消除有机物基体中C原子空间电荷效应又能保证适当的基体离子解离效率，充分消除干扰达到准确的检出限。


3. SCA提供的分析服务
SCA配置有整体百级局部十级的洁净间，同时配置有行业先进的安捷伦8900 ICPMSMS，使用内部专家半导体行业先进的技术方法，可提供以下高纯湿化学品分析：
超高纯无机酸：HNO₃, HCl, HF, H₂SO₄, SC1, SC2, SPM, LHF, DHF, BOE等
超高纯双氧水：H₂O₂
超高纯碱：TMAH, NH₃H₂O等
超高纯有机化学品：IPA, PGME, PGMEA, OK73, EKC, ST-44等
光刻胶
KOH, NaOH, Slurry等
超纯水
液晶和OLED材料